13B-6LY/P Läppmaschine
Die 13B-6LY/P Läppmaschine ist ein kompaktes Planetengetriebesystem mit 6 Trägern, das für das präzise beidseitige Schleifen und Polieren von Saphir-Wafern, SiC-Substraten, optischen Filtern und Glas entwickelt wurde. Erreicht Ebenheit ≤0,015 mm und Oberflächenrauheit im Sub-Nanometerbereich auf Werkstücken bis Ø210 mm — mit einer Druckregelgenauigkeit von ±10 N.
Die 13B-6LY/P Läppmaschine ist für Hersteller konzipiert, die eine kompakte, präzise doppelseitige Oberflächenbearbeitung von harten und spröden Materialien benötigen. Mit einem Plattentellerdurchmesser von 933 mm und einem 6-Träger-Planetengetriebe unterstützt diese Maschine die Produktion von Halbleiterwafern, optischen Filtern und fortschrittlichen Keramikkomponenten, die eine strenge Ebenheit und eine Oberflächenrauheit im Submikrometerbereich erfordern. Sie ist der Einstieg in die doppelseitige Schleif- und Polierlinie von Vimfun und die bevorzugte Wahl, wenn die Werkstückdurchmesser innerhalb von 210 mm liegen. Für größere Werkstücke siehe die 16B-5LY/P oder 22BF-5LY/P.
13B-6LY/P Läppmaschine — 6 Hauptmerkmale
Das Sonnenrad verwendet ein Planetenrad-Getriebe, das die Verzahnungsfestigkeit und Kontaktsteifigkeit des Planetenrads erhöht. Dies reduziert den Wartungsaufwand und senkt die langfristigen Servicekosten für Ringrad- und Sonnenradkomponenten.
Die neue maschinenstruktur im Portaldesign verbessert die Gesamtsteifigkeit und Präzision erheblich und gewährleistet eine stabile, gleichmäßige Druckverteilung während des Schleif- und Polierprozesses – auch unter wechselnden Lastbedingungen.
Die Vier-Motor-Konfiguration mit Frequenzumrichter-Drehzahlregelung ermöglicht ein sanftes Starten und Stoppen ohne mechanische Stöße und verhindert so Schäden am Werkstück. Jeder Motor kann je nach Materialtyp und Prozessstufe auf die optimale Drehzahl eingestellt werden.
Die oberen und unteren Grenzen der Ringräder sind elektrisch verstellbar. Die Verzahnungsposition verschiebt sich entlang der Richtung der Werkstückdicke und gewährleistet so eine stabile und konsistente Verzahnung zwischen den Ringrädern und den Planetenrägern während des gesamten Prozesszyklus.
Die Hauptspindel verwendet hochpräzise Kreuzrollenlager, die eine außergewöhnliche Rotationsgenauigkeit und Tragfähigkeit bieten. Dies ist die mechanische Grundlage für die Fähigkeit der 13B, über lange Produktionsläufe eine Ebenheit von ≤0,015 mm zu halten.
Das optionale Dickenmesssystem bietet eine Genauigkeit von ±2 μm über einen Bereich von 0–25 mm. Die Echtzeit-Regelung der Dicke im geschlossenen Regelkreis stoppt die Maschine präzise bei der Zielabmessung – keine manuellen Messunterbrechungen erforderlich.
Technische Daten — 13B-6LY/P-4M
| Parameter | Wert | Hinweis |
|---|---|---|
| Außenmaße (inkl. Spindellaufbuchse) | 1830 × 1350 × 2610 mm | |
| Polierplattengröße (SUS 410) | Φ933 × Φ350 × 50 mm | |
| Läppplattengröße (duktiles Gusseisen) | Φ933 × Φ350 × 50 mm | Ringnutentyp |
| Max. Werkstückdurchmesser | Φ210 mm | |
| Druckbereich | 120 ~ 3500 N | Erweiterbar |
| Druckregelgenauigkeit | ±10 N | |
| Trägermenge | 6 Stück | Z147 Sonnenrad |
| Getriebemodul | DP12 | |
| Rundlauf der unteren Platte | ≤ 0,04 mm | |
| Ebenheit der unteren Platte | ≤ 0,015 mm | Feldreparaturfähig |
| Rundlauf Außenverzahnung | ≤ 0,30 mm | |
| Rundlauf Zentralrad | ≤ 0,10 mm | |
| Dickenmessbereich | 0 ~ 25 mm | Optional |
| Dickenmessgenauigkeit | ±2 μm | Optional |
| Unterplattentrieb | 7,5 kW | Schneckengetriebemotor |
| Oberplattentrieb | 5,5 kW | Schneckengetriebemotor |
| Außenringradantrieb | 1,5 kW | Schneckengetriebemotor |
| Zentralradantrieb | 1,5 kW | Schneckengetriebemotor |
| Gesamtleistung | 18 kW | AC380V |
| Maschine Gewicht | ~ 4300 kg | Ungefähr |
| Sonnenrad-Rotation | Softwaregesteuert | Vorwärts / Rückwärts |
| Hauptlagerart | Hochpräzises Kreuzrollenlager |
Welche Materialien kann die 13B-6LY/P verarbeiten?
Doppelseitiges Läppen und Polieren von Saphir-Wafer-Läppen Substraten bis zu Φ210 mm für LED- und optische Anwendungen. Erreicht sub-Nanometer Ra und TTV unter 1 μm.
Präzise Oberflächenvorbereitung von SiC-Substraten für Leistungselektronik. Unabhängige Geschwindigkeitsregelung optimiert die Materialabtragung bei gleichzeitiger Einhaltung von TTV unter 1 μm.
Präzises doppelseitiges Läppen von Interferenzfiltern und Bandpassfiltern. Parallelität ist entscheidend für die optische Leistung – zuverlässig erreicht bei einer Ebenheit von ≤0,015 mm.
Ultradünne Glassubstrate für Display- und Halbleiterverpackungen. Die Mindestdruckfähigkeit von 120 N verhindert Bruch bei zerbrechlichen Werkstücken bis zu 0,1 mm Dicke.
Aluminiumoxid-, Zirkonoxid- und Siliziumnitridkomponenten für strukturelle und elektronische Anwendungen. Die Mohshärte von 7–9 wird durch die Planetenläppwirkung effizient bewältigt.
Quarzkristalle und Blauglas für Frequenzsteuerung und optische Komponenten. Das optionale Messsystem mit ±2 μm gewährleistet eine präzise Zieldickenkontrolle.
Warum die Vimfun 13B-6LY/P wählen?
Vimfun erbt das gesamte technische Know-how des ehemaligen Jiangxi AVIC Optics, unterstützt durch 17 Gebrauchsmusterpatente, 14 Software-Urheberrechte und 4 Erfindungspatente in der Präzisionsschleif- und Poliertechnik.
Früher ein qualifizierter Lieferant für Biel Crystal, Foxconn, Lens Technology und BYD. Die 13B-6LY/P Läppmaschinen-Technologie wurde in den anspruchsvollsten Produktionsumgebungen mit hohem Volumen validiert.
Vimfun fertigt seine eigenen QT500-7 Sphäroguss-Läppplatten mit CNC-Doppelseitenschleifen auf eine Ebenheit von ≤0,015 mm. Die Platten sind bei Lieferung sofort einsatzbereit – kein Einfahren oder Abrichten erforderlich.
Komplettlösung inklusive Ausrüstung, Prozessunterstützung und Verbrauchsmaterialien: geschlitzte Läppplatten, Diamant-Konditionierräder, Ringzahnräder und Polierpads. Ein Lieferant für Ausrüstung und alle laufenden Verbrauchsmaterialien.
Häufig gestellte Fragen – 13B-6LY/P Läppmaschine
Die 13B-6LY/P verarbeitet Saphir, optische Filter, Siliziumkarbid (SiC), blaues Glas, Glasscheiben, Saphirscheiben, Keramik, Kristalle, Halbleiter und Metalle. Jedes harte und spröde Material mit einem Werkstückdurchmesser von bis zu Φ210 mm liegt innerhalb der Spezifikation.
Die 13B-6LY/P unterstützt den Ultra-Leichtdruckmodus. Der Mindestdruck von 120 N ermöglicht in Kombination mit dem Planeten-Trägersystem die Bearbeitung von Werkstücken bis zu einer Dicke von 0,1 mm – wie mit Glasscheibenmustern in unserem Produktkatalog demonstriert.
Unter geeigneten Slurry- und Polierpadbedingungen erreicht die 13B-6LY/P eine Oberflächenrauheit im Sub-Nanometerbereich. In Kombination mit einer Ebenheit von ≤0,015 mm und einer TTV unter 1 μm erfüllt dies die Anforderungen an die Oberflächenqualität von Wafern in Halbleiter- und optischer Qualität. Unabhängige Daten zur erreichbaren Ra für Saphir finden Sie unter ScienceDirect: Saphirwafer-Bearbeitung.
Ja. Zwei austauschbare Plattensätze sind enthalten: eine geschlitzte Platte aus duktilem Gusseisen zum Läppen und eine Platte aus SUS 410 Edelstahl zum Polieren. Beide sind Φ933 × Φ350 × 50 mm groß und können ausgetauscht werden, um zwischen Läpp- und Polierarbeiten umzuschalten.
Wählen Sie die 13B-6LY/P, wenn Ihre Werkstücke einen Durchmesser von bis zu 210 mm haben, Sie 6 Träger für eine höhere Stückzahl pro Charge benötigen oder Sie in einer platzbeschränkten Produktionsumgebung arbeiten. Für Werkstücke zwischen 210–390 mm Durchmesser oder wenn eine Lagerpräzision der Klasse P5 erforderlich ist, ist die 16B-5LY/P die bessere Wahl.
Die Standardlieferzeit beträgt 60–90 Tage ab Auftragsbestätigung. Vor-Ort-Installation, Maschineninbetriebnahme und Schulung des Bedieners sind im Lieferumfang jedes Kaufs enthalten. Kontaktieren Sie uns für projektspezifische Zeitpläne.
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