Tirador de Cristales Czochralski Continuo | CCz-1600 — Vimfun
Crecimiento de Cristales / Serie CCz / Carga Continua

CCz-1600

Cristalizador Czochralski de Carga Continua para Silicio de Grado Semiconductor

El CCz-1600 es un cristalizador Czochralski de carga continua diseñado para la producción de lingotes de silicio de grado semiconductor. La alimentación continua automatizada y el dopaje sólido en bucle cerrado permiten tiradas de cristal más largas, un control de resistividad más estricto y un menor costo por kilogramo, sin aumentar el tamaño del horno.

Carga Continua Dopaje Sólido ±0.01g Cámara Φ1400mm Carga de 1000kg Compatible con RCZ + CCz Hasta 10 pulgadas
1000kg
Capacidad de Carga
±0.01g
Precisión de Dopaje
2–3×
Mayor Coeficiente de Dopaje
FIG. 01 / CCz-1600
REV. A · 2026
TIRADOR CONTINUO DE CZ
VIMFUN /SEM
Tirador de cristales Czochralski de carga continua CCz-1600 para silicio de grado semiconductor
[ 01 ] CÁMARA
Φ1400 mm
Diámetro interior de la cámara principal
[ 02 ] ALIMENTADOR
1200 kg
Capacidad del alimentador lateral externo
[ 03 ] VELOCIDAD DE ALIMENTACIÓN
20–600
g/min, ajustable linealmente
[ 04 ] POTENCIA
150 kW
Potencia pico del calentador de CC
[ 02 ] / CARACTERÍSTICAS DEL PRODUCTO
Ventajas principales

Cuatro razones para elegir carga continua.

Cada ventaja a continuación está probada en producción en la plataforma CCz-1600, respaldada por datos de validación de procesos internos.

01 / ALIMENTACIÓN

Carga Continua Automatizada

Sistema de alimentación continua automatizada con velocidad de alimentación linealmente ajustable. La fluctuación de la velocidad de alimentación en tiempo real se mantiene por debajo de ±10 g/min, lo suficientemente estable como para mantener un volumen de fusión y condiciones térmicas consistentes durante toda la ejecución de crecimiento del cristal.

02 / DOPADO

Coeficiente de Dopado Efectivo Alto

Sistema de dopado sólido continuo automatizado con control de bucle cerrado. El dopante se alimenta dinámicamente en proporción a la carga de silicio. El coeficiente de dopado efectivo es 2-3 veces mayor que el dopado en fase gaseosa, lo que significa menos desperdicio de dopante y un control de resistividad más fuerte.

03 / RESISTIVIDAD

Control Preciso de la Resistividad

Permite una distribución estrecha de la resistividad en toda la longitud del cristal. La uniformidad de la resistividad radial y axial se mantiene al mantener estable la concentración de dopante a través de la alimentación proporcional continua, no solo en el extremo de la semilla.

04 / ECONOMÍA

Mayor Rendimiento, Mismo Horno

El rendimiento aumenta sin escalar el tamaño del crisol, el cuerpo del horno o las dimensiones de la zona caliente. La alimentación continua extiende la ejecución del cristal desde la misma cámara, mayor eficiencia de producción y menor costo por kilogramo de cristal producido.

[ 03 ] / RESULTADOS PROBADOS
Desarrollo de Procesos Internos

Recetas validadas.
Datos de producción reales.

El CCz-1600 se envía con recetas de crecimiento de cristales desarrolladas y validadas internamente. Estos resultados provienen de nuestras propias extracciones de cristales, no de simulaciones.

🔵

Cristal tipo P dopado con Ga de 10″

GALIO · TIPO P · 10 PULGADAS

Control de resistividad axial de longitud completa en un lingote tipo P dopado con galio de 10 pulgadas. El dopaje continuo mantiene una estricta uniformidad de cabeza a cola.

Resistividad axial: 0.6 – 0.7 Ω·cm (longitud completa)
RRG radial: < 6.0%
🔴

Ultra-Bajo-Ω tipo N dopado con fósforo de 8″

FÓSFORO · TIPO N · ULTRA-BAJO Ω

Cristal tipo N dopado con fósforo de 8 pulgadas y ultra-baja resistividad: el régimen donde el dopaje en fase gaseosa no puede competir.

Resistividad de cabeza: < 0.001 Ω·cm
RRG radial: < 6%
[ 04 ] / TECHNICAL SPECIFICATIONS
Datasheet

Especificaciones Técnicas

DOC   CCz-1600-DS-A REV   A FECHA   2026.05
● ACTIVO
#ParámetroEspecificación
01Dimensiones generales (L × A × H)2000 × 2300 × 10800 mm
02Capacidad de Carga1000 kg (personalizable)
03Sistema de dopajeDopaje sólido continuo en línea de alta precisión, precisión de control ±0.01g
04Diámetro interior de la cámara principalΦ1400 mm
05Diámetro interior de la cámara de tracciónΦ350 mm
06Compatibilidad de la zona caliente24–34″ RCZ + 32–34″ CCz; cristales de hasta 10″ de diámetro
07Método de CalentamientoCalentamiento por resistencia, fuente de alimentación CC, Pmax = 150:50 kW
08Método de cargaAlimentador externo continuo montado lateralmente (1200 kg) + reposición dinámica de silicio en línea + pre-carga en crisol
09Rango de velocidad de alimentación20 – 600 g/min, linealmente ajustable
10Precisión del control de la velocidad de alimentación≤ 500 g/hr
11Fluctuación de la velocidad de alimentación en tiempo real< ±10 g/min
Hoja de especificaciones completa — incluyendo perfiles térmicos, requisitos de servicios de la instalación y planos de la máquina — está disponible después de una llamada de calificación técnica. Envíe una solicitud de cotización a continuación para iniciar esa conversación.
[ 05 ] / ¿POR QUÉ CCz-1600?
Caso de negocio

La economía de carga continua.

La carga continua no solo cambia la forma en que cultiva cristales, sino que cambia la economía de producción. Esto es lo que significa para su operación.

📈

Más Cristal, Misma Huella

Extienda la longitud de crecimiento del cristal desde la misma cámara de Φ1400 mm. No es necesario invertir en un horno más grande, una zona caliente más grande o un piso reforzado: el rendimiento aumenta a través del tiempo de ejecución, no del tamaño del equipo.

💰

Menor Costo por Kilogramo

Elimine el ciclo de enfriamiento, recarga y recalentamiento entre extracciones. La operación continua significa más horas de horno productivas por mes, lo que reduce directamente el costo por kilogramo de cristal producido.

🎯

Especificación Más Estricta, Mayor Rendimiento

El dopaje continuo mantiene la uniformidad de la resistividad en todo el lingote, no solo en la primera sección. Más cristal utilizable por ciclo significa menos obleas rechazadas y un mayor rendimiento posterior.

🔄

Modo Dual RCZ + CCz

El mismo horno ejecuta tanto el CZ recargado convencional como la carga continua. Comience con recetas RCZ que ya conoce, luego transicione al modo continuo a su propio ritmo.

🧪

Recetas Probadas Incluidas

Se envía con recetas de crecimiento de cristales validadas para cristales dopados con Ga tipo P y dopados con P tipo N, incluyendo especificaciones de resistividad ultrabaja. Comience con un proceso conocido y bueno.

🤝

Entrega con Servicio Completo

Estudio del sitio, instalación, puesta en marcha, calificación del primer cristal y suministro de consumibles a largo plazo, todo de un solo proveedor. Permanecemos hasta que el horno esté produciendo según las especificaciones.

[ 06 ] / Preguntas frecuentes
Preguntas frecuentes

Preguntas comunes sobre el CCz-1600.

Hasta 10 pulgadas. La cámara admite zonas calientes de 24″ a 34″ en modo RCZ y de 32″ a 34″ en modo CCz, cubriendo los diámetros de producción más comunes para dispositivos de potencia, circuitos integrados analógicos y silicio especial.
El dopaje sólido introduce el dopante directamente en el fundido con un coeficiente de dopaje efectivo 2-3 veces mayor en comparación con los métodos en fase gaseosa. Para especificaciones de resistividad ultrabaja (por debajo de 0.001 Ω·cm) o distribuciones de resistividad muy ajustadas, el dopaje sólido es el camino práctico: el dopaje gaseoso no puede mantener esos niveles durante una extracción de cristal larga.
Sí. La cámara es compatible con zonas calientes RCZ (24-34″) y CCz (32-34″). Puede realizar extracciones CZ recargadas convencionales cuando eso se adapte a su producto, y luego cambiar al modo de carga continua cuando su proceso esté listo. Ambos modos comparten la misma plataforma de horno.
Sí. La capacidad de carga estándar es de 1000 kg, pero se puede personalizar según sus requisitos de producción. Contáctenos con sus especificaciones objetivo y discutiremos las opciones.
Comenzamos con un estudio del sitio previo a la entrega para confirmar los requisitos de las instalaciones: cimientos, servicios públicos y diseño. Después de la entrega, nuestro equipo in situ se encarga de la instalación, la puesta en marcha y la calificación del primer cristal. Permanecemos hasta que el horno esté produciendo cristal que cumpla con sus especificaciones objetivo.
[ 07 ] / LÍNEA DESCENDENTE
[ 08 ] / CONTACTAR

Listo para discutir
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Comparta su especificación de cristal objetivo, volumen de producción y cronograma. Responderemos en 24 horas con una evaluación de ajuste técnico y los próximos pasos.

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