Categoría: Crystal Growth Furnace

CARTERA COMPLETA DE EQUIPOS

Equipos de Crecimiento de Cristal y Fabricación de Obleas por Etapa de Proceso

Equipo de horno de crecimiento de cristales para la fabricación de semiconductores, incluidos tiradores de cristales de silicio, sistemas de horno MCZ y hornos de crecimiento de cristales de zafiro. Esta categoría conecta la etapa de crecimiento con equipos posteriores de corte de lingotes, corte de obleas, pulido y abrillantado.

Cristalizador MCZ de 12 pulgadas

Tirador de silicio de 12 pulgadas

  • Tecnología: CZ Continuo (CCz) / H-MCZ
  • Diámetro Máximo: 300 mm / 12 pulgadas
  • ID de Cámara: Φ1400 mm
  • Control de Diámetro: ±0.05 mm
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Horno de Crecimiento de Cristal de Zafiro Kyropoulos

Horno de Crecimiento de Cristal de Zafiro

  • Método: Czochralski Continuo (CCz) / H-MCZ
  • Capacidad Máxima: 1000kg (Personalizable)
  • Diámetro Máximo: 300 mm / 12 pulgadas
  • Uniformidad: < 6.0% Resistividad (RRG)
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Tirador de cristales Czochralski continuo

Tirador de Cristales de Silicio

  • Método: Czochralski Continuo (CCz) / H-MCZ
  • Capacidad Máxima: 1000kg (Personalizable)
  • Diámetro Máximo: 300 mm / 12 pulgadas
  • Uniformidad: < 6.0% Resistividad (RRG)
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