Vollständiger Ausrüstungskatalog für die Halbleiterwafer-Herstellung

22BF-5LY Doppelseitige Poliermaschine
  • Max. Werkstückdurchmesser (mm): Φ480
  • Max. Bearbeitungskraft: 9000 N
  • Plattenplanheit: ≤0,02 mm
  • Gesamtleistung: 36 kW
industrielle Läppmaschine
  • Max. Werkstückdurchmesser (mm): Φ390
  • Lager: P5 gekreuztes Rollenlager
  • Plattenplanheit: ≤0,015 mm
  • Dickenpräzision: ±2 μm (opt.)
Läppmaschine-13B-6LY_P
  • Max. Werkstückdurchmesser (mm): Φ210
  • Träger: 6 Stk.
  • Plattenplanheit: ≤0,015 mm
  • Druckregelung: ±10 N
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